光刻机又名：掩模准曝光机，常的光刻机是掩膜准光刻，是制造规模集电路的核装备，每颗芯片诞生初，经光刻技术锻造，简单说，光刻机就是工程师的设计“刻印”在基底材料-硅片，在2—3平方厘米的方寸集数十亿晶体管。
光刻机“刻印”处理的硅片再经蚀刻机加工，通化反应，物理撞击移除废弃“硅片”的废弃部分，再经历某些封装工艺，神奇硅片材料变废宝，变价值高昂的-电子芯片。
因周兴的关系5纳米级蚀刻极量产期，光刻机众人中的重中重，果光刻机再有所突破，那芯片领域高铁领域一，突破西方国封堵完弯超车。
“不什？有话快说，别卖关子。”严教授瞪着周兴，催促问：
“光刻机我是有研究，不，暂别的法。”周兴了严教授一眼，淡淡说：
闻言，在场众人面色一松，露意料中的神色，脸又带了一丝遗憾，神色复杂。
5纳米级蚀刻机的量产工艺被周兴攻克，果连光刻机被周兴突破了，那他的研力未免太吓人了。
光刻机比蚀刻机复杂了，芯片的核是光刻机，光刻机的核是镜头，目前世界主流的光刻机是深紫外侵入式光刻机，……（内容加载失败！）
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