午四点半。
梼杌行政主管、王院士、张君、众其它科研单位代表目送方年乘车离。
着车辆尾灯闪烁最终消失在街头。
众人不约同的在松了口气。
接着相互间有眼神汇，虽面色各有不同，但跃跃试。
短暂的议，众人代表各单位初步确定加入前沿梼杌倡导的泛技术联合投资管理单元。
随，方年在议提了两需同步解决的情：
一件情，牵头方择址即刻建设一高一万平的超级无尘工室；
二件，各单位分一部分人员，共同进行EUV光刻机初代原型研究。
一件求不。
二件职责所在。
至少今与的各单位承接了部分02专项的课题。
02专项的全称是极规模集电路制造技术及套工艺：
原本求在11·5期间实现90纳米制造装备产品化，现在12·5了，产品化做，有实验机；
最高求需展14nm及更精密工艺前瞻研究。
毫无疑问，必是需进行EUV光刻机研领域。
额外的，02专项求在12·5期间进行45~22纳米关键制造装备攻关。
前按照求完90纳米制造装备产品化，现在已经进入了12·5半年了，眼瞅着本五年该实现的目标在五年完……（内容加载失败！）
(ò﹏ò)
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