“陈总，台就是我研的浸润式光刻机。一台光刻机打破了传统的干式光刻理论，采湿式水媒介，从让制程幅度的进行了提升。虽我目前的制程水平是在100纳米左右，但我随进入65纳米行例。”
“就是说，一旦我的浸润式光刻机马，我的技术水平将asml比肩。同，我生产目前最顶尖的芯片。”
中国际一处秘密研究基，林本坚兴奋的向陈宇做着介绍。
“，很。”
着眼前一台光刻机，陈宇同的有些激动。
前世，国人不知的一台光刻机奋斗了久。
。
倒不是说前世国人做不光刻机。
其实光刻机技术国人是掌握的，但做达全球顶尖制程的光刻机，那就不是那容易的了。
截止2021年，前世国内最顶尖的光刻机制程仅仅达90纳米。
但asml已经达5纳米，3纳米，甚至往2纳米方向进军。
是几十倍的差距。
同是几代水平的差距。
真按的差距进行追赶，恐怕100年。
幸。
早在前陈宇就从台积电挖脚了林本坚。
在他的湿式光刻理论的帮助，全球一台浸润式光刻机就此诞生。
“陈总，台光刻机不是我最先进的，在湿式光刻理论的支持……（内容加载失败！）
(ò﹏ò)
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