总的说，四代光刻机技术指标，是三代EUV的二十倍左右。
就比马车火车的迭代，差距是全方位的，更短的波长是一表象，最惊人的创举在，星辰科技突破了曝光功率的物理限制。
普通百姓或许并不清楚，从一代三代光刻机，其实是力奇迹的结果。
就拿三代EUV说，极紫外光是超功率的电老虎，250W的机台每工一，就耗费高达三万度的电力，且需一套体积惊人的散热系统辅助。
技术不够，功率凑，一直是光刻机展的逻辑，在星辰科技前，有任何企业真正解决问题，工程师的思路通常简单粗暴，他更精确曝光效果，就不断的提高功率，制造更的光源生器，打磨更精良的透镜。
星辰科技所够彻底解决问题，是因他有延续功率光源爆的传统，是直接采了激光。
从本质说，星辰科技的四代光刻系统，就是一套激光散平台，玩意儿不仅刻蚀硅晶圆，工艺改良，甚至展激光武器。
，从激光刻蚀平台激光武器间，有很长的科技树攀爬，并不够一蹴就。
“是激光散！华夏人了激光技术！”
“零点五纳米的激光刻蚀？那岂不是意味着……（内容加载失败！）
(ò﹏ò)
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